Selon des médias étrangers du 30 septembre, le ministère japonais de l’Économie, du Commerce et de l’Industrie envisage d’octroyer des subventions pouvant atteindre 190 milliards de yens (environ 9,3 milliards de RMB) à l’usine d’Hiroshima du géant des semi-conducteurs Micron Technology.
Micron introduira l'équipement de production le plus avancé « équipement de lithographie ultraviolet extrême (EUV) » dans son usine d'Hiroshima et prévoit de produire en masse une nouvelle génération de DRAM (mémoire vive dynamique) à partir de 2026.
Le Japon a également décidé d'accorder jusqu'à 476 milliards de yens de subventions à l'usine TSMC de Kumamoto afin de renforcer les fondations de l'industrie nationale des semi-conducteurs.