L'expert technique en chef d'ASML, Michael Purvis, a révélé dans une interview avec les médias que les chercheurs ont réussi à trouver un moyen d'augmenter la puissance de la source lumineuse des machines de lithographie à ultraviolets extrêmes (EUV) de 600 watts actuellement à 1 000 watts.Il ne s'agit pas d'une démonstration de courte durée en laboratoire, mais d'un système complet capable de répondre aux exigences strictes des environnements de production réels des clients et de fonctionner de manière stable.
À mesure que la puissance de la source lumineuse atteint le niveau du kilowatt, la capacité de production des machines de lithographie fera également un bond en avant.Selon les estimations de l'ASML, lorsque la puissance de la source lumineuse est augmentée à 1 000 watts, la capacité de traitement des tranches par heure peut passer de 220 à 330 tranches en 2030, soit une augmentation allant jusqu'à 50 %.
Ce qui est encore plus remarquable, c'est que même si la capacité de production a été considérablement augmentée, le coût de fabrication d'une seule plaquette est resté pratiquement inchangé. Cela signifie que les fabricants de puces peuvent obtenir une augmentation significative de leur capacité de production simplement en améliorant les performances des équipements existants sans augmenter la superficie des salles blanches ni acheter d'équipements supplémentaires.
Cependant, il n’existe actuellement aucun calendrier clair quant au moment où cette technologie sera mise en œuvre. Des analystes externes estiment qu'ASML pourrait à l'avenir fournir à ses clients des services de mise à niveau des sources lumineuses sous la forme de kits de mise à niveau, mais tous les modèles de machines de lithographie EUV ne sont pas éligibles aux mises à niveau, et la portée spécifique de l'adaptation reste à divulguer davantage.
Pour ASML, 1 000 watts ne constituent évidemment pas le point final. Purvis a révélé que l'équipe explore déjà la possibilité de pousser la puissance de la source lumineuse à 1 500 watts, voire 2 000 watts.
À mesure que la puissance des sources lumineuses continue d'augmenter, le plafond de capacité de production des machines de lithographie EUV continuera d'être repoussé, ouvrant la voie à des besoins de fabrication de puces plus complexes et plus importants à l'avenir.
